某半导体鑫霖环保芯片鑫霖环保芯片生产厂在晶圆生产制作工作中，应用硅烷开始硅外加植物的生长，排放洗涤剂塔带来高氨水浓度含硅污电镀废水 。污电镀废水 具备着pH冲击大（2-11）、硅含量高的特色，传统式清理方式 易冒出硅垢堵塞了毛病。 化工废水有效成分及主要来源 废液包括成分表为： 溶水性硅酸盐 ：SiO₂密度达1000-1500mg/L 氢氧化反应钠/氢氧化反应钠 ：清洗塔耐酸碱清洗液杂质 科粒硅 ：纳米技术级SiO₂溶液 痕量砷 ：原材料钙镁离子带去 治理 生产技术程序流程 的创新采用了"多级中合+膜滤出+挥发晶粒"施工工艺： 一級与 ：用CaO改善pH至4-5，转换成硅酸钙析出，硅除去率60%。 中级结合 ：加Na₂CO₃将pH提拔至9，进这一步沉积累计硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置设备 ：0.02μm瓷砖膜滤出微米级硅颗粒状，通量稳定的在80LMH。 MVR挥发器 ：萃取高盐焦化废水，结晶体出Na₂SO₄副设备，水回收率超90%。 然后特效 总硅从1500mg/L减少为5mg/L一些 砷纯度从0.8mg/L降落到0.01mg/L 整体无积灰执行可超过2年 每月再利用硝酸钠钠纳米线约800吨