好项目题材 伤害某半导体芯片厂工作时候中而且呈现高硅废液（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废液（F⁻ 200-300mg/L）。两者废液交织后常组成氟硅酸电解质溶液，以往化学水解法不好维持不合格。该项目要同时祛除硅和氟（排放标准的要求规范标准规范：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理工艺有效成分及因素 关键组成成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 原因 ：晶圆刻蚀工业废污水、CMP研磨主设备工业废污水、主设备情况呢水 处理艺过程 推进石雕文化沉淀一阶段 ： 两极发应池 ： 首级污泥脱水Ca(OH)₂出现CaF₂和CaSiO₃滤渣； 二是级污泥脱水PAC（缩聚氯化铝）强化装备斜管沉淀池。 固液脱离阶段中 ： 超滤膜装置 ：进行0.02μm直径膜元件挪用电解质溶液硅和微细乳浊液物。 强度脱氟的阶段 ： 化学活化脱色铝粘附塔 ：残余物氟铝离子吸附性取除。 结果的效果 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远更为重要部委标淮。 超滤膜装置通量平稳在15LMH，电学刷洗期提高至60天。 工业废水经压滤后含水量率＜65%，可按大部分固体废物防范。